電子束蒸發(fā)鍍膜技術(shù)及設(shè)備是用于半導(dǎo)體元件和光學(xué)零件簿膜生產(chǎn)、研究的理想設(shè)備。在極限真空、防止油污染和縮短工作周期等方面都具有較好的性能。是用于單層/多層光學(xué)薄膜的生產(chǎn)也是比較理想的設(shè)備。

應(yīng)用領(lǐng)域：

本機(jī)為電子槍蒸發(fā)式真空鍍膜機(jī)，主要用于在玻璃鏡片上鍍制增透膜、分光膜、帶通膜/截止膜、高反膜等各種膜系，能夠?qū)崿F(xiàn)100層膜的超大型膜系鍍膜，也能滿(mǎn)足在樹(shù)脂鏡片上鍍制各種顏色的增透膜以及在太陽(yáng)鏡片上鍍制紅、黃、藍(lán)、綠等顏色的反光膜，還適用于裝飾品的鍍膜，如七彩等顏色。

設(shè)備主要特點(diǎn)：
1. 配置超大坩堝電子槍?zhuān)麄€(gè)蒸發(fā)過(guò)程中膜料表面平整，蒸發(fā)分布均勻；
2. 配置石英晶體膜厚控制儀可實(shí)現(xiàn)成膜速度和鍍膜過(guò)程的自動(dòng)控制；
3. 配置大功率離子源，膜厚質(zhì)量好；
4. 總體結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，更符合工藝的要求，真空系統(tǒng)PLC自動(dòng)控制，人機(jī)界面，操作方便。

5. 真空操作系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)互鎖保護(hù)，擴(kuò)散泵有斷水、斷相報(bào)警功能。

6. 采用觸摸屏和PLC自動(dòng)控制，實(shí)現(xiàn)對(duì)整機(jī)主要部件的參數(shù)化設(shè)置、實(shí)時(shí)運(yùn)行監(jiān)控及故障智能診斷。

主要技術(shù)指標(biāo)：
1、真空工作室系統(tǒng)
內(nèi)腔尺寸：直徑×高度　
真空系統(tǒng)：
機(jī)械泵--國(guó)產(chǎn)2x型旋片泵，可根據(jù)需要選用進(jìn)口泵
羅茨泵--國(guó)產(chǎn)ZJ型羅茨泵，可根據(jù)需要選用進(jìn)口泵
擴(kuò)散泵--采用兩臺(tái)國(guó)產(chǎn)油擴(kuò)散泵　
深冷系統(tǒng)--可選配
冷阱--采用新型緊密水冷冷阱，有效降低擴(kuò)散泵返油率
真空參數(shù)：
極限真空：3×10^-4Pa
恢復(fù)真空時(shí)間：從大氣抽至4×10^-3Pa時(shí)間不大于15分鐘
2、工件烘烤裝置
采用上烘烤加熱方式，不銹鋼管狀加熱器作為加熱源　　　　　　　　　　　　　　　　　

溫度控制范圍：常溫到350℃　　　　　　　　
PID溫度控制系統(tǒng)，加熱管功率多組獨(dú)立可調(diào)　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
溫度分布均勻度：±10℃　
3、修正板機(jī)構(gòu)：配有可倒式修正板，能進(jìn)行自動(dòng)控制
4、工件盤(pán)：采用整體工件盤(pán)，利于提高鍍膜精度和均勻性
5、蒸鍍系統(tǒng)：　　
蒸發(fā)方式--電子槍?zhuān)?/span>
亦可使用進(jìn)口電子槍
6、膜厚監(jiān)控系統(tǒng)：
晶體膜厚控制儀--石英晶體監(jiān)控儀，亦可選用可配單片式、雙片式或六片式探頭光學(xué)膜厚監(jiān)控系統(tǒng)--選配
7、充氣系統(tǒng)：
質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng)
可選配壓強(qiáng)控制儀
8、電氣控制系統(tǒng)：可實(shí)現(xiàn)抽真空和鍍膜過(guò)程自動(dòng)控制亦可選配觸摸屏界面。